Plasmas Froids - Réactivité en volume et en surface

Collectif Publications de l'Université de Saint-Etienne - Collection Intégrations

275 pages, parution le 25/10/2004

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Résumé

Ce livre a été réalisé suite aux présentations effectuées lors des Journées d'échanges du Réseau Plasmas Froids qui se sont déroulées à Bonascre (Ariège) en octobre 2002 et 2003. Le lecteur trouvera des exposés systématiques mais aussi des illustrations et une introduction par l'exemple à la réactivité chimique, aussi bien dans le volume du plasma qu'au niveau des surfaces en contact avec le gaz ionisé. Cet ouvrage aborde tous les plasmas f froids : naturels, thermiques, hors équilibre, générés par laser,... et traite de la formation de couches minces et d'aérosols par plasma. Les processus élémentaires sont décrits ainsi que les outils de diagnostics des surfaces. Un accent particulier est mis sur des techniques performantes et récemment développées comme l'ellipsométrie infrarouge et la réflectométrie de rayons X En ce qui concerne le diagnostic du gaz, seule l'absorption infra-rouge est présentée car les autres méthodes font partie du volume de cette collection intitulé "Plasmas froids, Génération, Caractérisation et Technologie". Compte tenu de l'ampleur du domaine, cet ouvrage, écrit en Français, doit être considéré comme une aide pour acquérir les principes de base, trouver les références les plus pertinentes, se familiariser avec un réacteur ou un outil de diagnostic. Il s'adresse donc autant aux étudiants qu'aux chercheurs, techniciens et ingénieurs confirmés qui abordent une nouvelle facette du domaine des plasmas froids.

Sommaire

Réactivité en volume
- Cinétique en volume dans les décharges azote-oxygène
- Simulation en laboratoire de la production d'analogues
- d'aérosols organiques de l'atmosphère de titan par plasma RF
- Utilisation des diodes laser infrarouge pour les plasmas
Traitement de surface par les plasmas
- Mécanismes élémentaires d'interaction particules-surfaces
- Interaction plasma d'arc - surface pour l'obtention de dépôt: influence de la réactivité, des interfaces, de la micro et nano-structure sur les propriétés mécaniques
- Interaction Laser- Silicium
- Dépôts de couches minces de silicium par voie plasma RF
Caractérisation des surfaces
- Introduction aux techniques d'analyse de surface
- Ellipsométrie infrarouge à modulation de phase Principes
- et applications
- Réflectométrie de Rayons-X

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Caractéristiques techniques

	PAPIER
Éditeur(s)	Publications de l'Université de Saint-Etienne
Auteur(s)	Collectif Publications de l'Université de Saint-Etienne
Collection	Intégrations
Parution	25/10/2004
Nb. de pages	275
Format	16 x 24
Couverture	Broché
Poids	504g
Intérieur	Noir et Blanc
EAN13	9782862723402
ISBN13	978-2-86272-340-2