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Caractérisation des couches minces élaborées par pecvd et hwcvd
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Librairie Eyrolles - Paris 5e
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Caractérisation des couches minces élaborées par pecvd et hwcvd

Caractérisation des couches minces élaborées par pecvd et hwcvd

Haythem Romdhane - Collection Omn.univ.europ.

92 pages, parution le 23/11/2016

Résumé

Des couches minces de carbure de silicium amorphe hydrogéné sont élaborées par PECVD et HWCVD sur des substrats de verre et de silicium. Les propriétés optiques nous ont permis d'estimer la largeur de la bande interdite. Les caractérisations électriques ont montré la nature Schottky du contact et ont permis de déterminer l'énergie d'activation et la concentration des porteurs des structures obtenues avec ces couches. Les paramètres caractéristiques d'une diode Schottky à barrière inhomogène ont été aussi déduits des mesures électriques.

Caractéristiques techniques

  PAPIER
Éditeur(s) Editions universitaires européennes
Auteur(s) Haythem Romdhane
Collection Omn.univ.europ.
Parution 23/11/2016
Nb. de pages 92
Format 15.2 x 22.9
Couverture Broché
Poids 148g
EAN13 9783639542417

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