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ULSI technology
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Librairie Eyrolles - Paris 5e
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ULSI technology

ULSI technology

C.Y. Chang, Simon M. Sze

640 pages, parution le 01/05/1996

Résumé

Aimed at senior-level and graduate courses in ULSI technology, this text covers such topics as: clean-room technology; water-cleaning technology; epitaxy; conventional and rapid thermal process; and lithography.

Summary of contents

  • Clean room technology
  • wafer cleaning technology
  • epitaxy
  • conventional and rapid thermal process
  • dielectric and polysilicon film deposition
  • lithography
  • etching
  • metallization
  • process integration
  • assembly and packaging
  • yield and manufacture technology
  • reliability

L'auteur - Simon M. Sze

Simon M. Sze, Ph.D. is UMC Chair Professor of National Chiao Tung University, and President of the National Nano Device Laboratories. He has received the IEEE Ebers Award, the Sun Yet-sen Award, the National Science and Technology Award, and the National Chair Professor Award. He is a Life Fellow of IEEE, a member of the Academia Sinica, the Chinese Academy of Engineering, and the US National Academy of Engineering. He has authored or coauthored over 150 technical papers, and has written, edited, and contributed to 24 books. His book Physics of Semiconductor Devices (Wiley 1969, 2nd Ed, 1981) is the most cited work in contemporary engineering and applied science publications (over 12,000 citations from ISI Press).

Caractéristiques techniques

  PAPIER
Éditeur(s) Mc Graw Hill
Auteur(s) C.Y. Chang, Simon M. Sze
Parution 01/05/1996
Nb. de pages 640
EAN13 9780071141055

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